Следите за нами в социальных сетях:

Единая отраслевая платформа по электронике, микроэлектронике и новым технологиям
我们在俄罗斯为中国公司做广告
Новости электроники и микроэлектроники
Приглашаем подписаться на наш telegram-канал https://t.me/IndustryHunter, где мы публикуем новости, перепосты важных сообщений от ассоциаций и наших информационных партнеров, анонсы ближайших событий и многое другое

Эта технология позволит уменьшить транзисторы в чипах на порядок. Норвежский стартап Lace Lithography получил 40 млн долларов инвестиций

| 84

Фото Lace Lithography

 

Норвежский стартап Lace Lithography, поддерживаемый Microsoft, как сообщает Reuters, привлёк 40 млн долларов в очередном раунде финансирования. Компания разрабатывает инструмент для изготовления микросхем, который использует пучок атомов гелия вместо света для нанесения рисунка на кремниевые пластины.

Эта технология, согласно данным самой Lace Lithography, позволяет создавать элементы микросхем в 10 раз меньшего размера, чем существующие системы литографии. Ширина луча составляет всего 0,1 нм, тогда как сканеры EUV компании ASML используют длину волны 13,5 нм.

Разработка пока далека от финальной стадии, но компания говорит, что планирует запустить тестовый образец на пилотном производстве к 2029 году.

Преимущество такой технологии заключается в том, что атомы не имеют дифракционного предела в отличие от фотонной литография, на которую опирается ASML. Такой подход позволит уменьшить транзисторы и другие элементы на порядок.

Сама компания называет свои системы BEUV (Beyond-EUV). Она была основана в 2023 году физиком Бодилой Холст.

 

 

Источник: https://www.ixbt.com/news/2026/03/25/lace-lithography-40.html

 

Подписаться на рассылку

Вернуться к ленте новостей